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聊一聊:传统曝光机阻焊成像的缺点

发布时间:2022-03-19 | 文章来源:华恒智能科技原创

  曝光机是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术 ,在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造,传统汞灯曝光机有如下缺点,详情请见下文:

  1.采用在的反光罩,发光角度超过45度,反光罩无规律反射和漫射;造成阻焊成像解析度不高,生产有精密的BGA、阻焊桥等产品良品率降低。

  2.光源稳定性差,使用寿命在1000小时左右,在这么短的时间内光强变化明显;造成周期性更换光源和相关配件,维护成本高。

  3.传统曝光机采用高压汞灯发光成像,加配空调冷却,整台机器超过30KW,;造成耗能成本高,利润空间降低。

  4.维护复杂、换汞灯、水套、高子罐、密封圈等,维护成本高,造成每年耗材和维护成本达3万左右。

  5.光强分布不均匀,台面整体均匀度在85%左右,台面边缘均匀度更低,整个台面的利用率不足80%;造成生产效率降低,品质一致性差,有些产品中间正常,四角曝光不良。

  6.因解像度的局限,难以开发更精密的产品,市场局限显现,难以跟上电子产品更轻、更薄、更密、更多功能的发展要求,这样成为制约公司发展的技术瓶颈,影响公司发展。

  7.曝光区间严格控制在台面80%的区间,台面四周与中间能量不均匀,品质一致性差。因为是散光,精密BGA和阻焊桥等曝光合格率低,还会出现显影侧蚀、阻焊桥甩线等不良;造成生产管控难度增大,操作必须保持阻焊精密和深度固化二者之间艰难平衡,品质稳定性和一致性差,良率降低。

  以上就是华恒智能科技小编给你们介绍的传统曝光机阻焊成像的缺点,希望大家看后有所帮助!


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